Fujifilm XF 100-400mm f/4,5-5,6 R LM OIS

Fujifilm XF 100-400mm f/4,5-5,6 R LM OIS
Fujifilm XF 100-400mm f/4,5-5,6 R LM OIS - 2/2
Fujifilm XF 100-400mm f/4,5-5,6 R LM OIS
Fujifilm XF 100-400mm f/4,5-5,6 R LM OIS - 2/2
Nejnovější teleobjektiv z řady X, který nabízí široké pokrytí ohniskové vzdálenosti, výbornou světelnost, nový systém ostřícího motorku a odolnost vůči povětrnostním podmínkám.
Vaše výhody
Lenspen ORIGINAL - čistící štětec na optiku
800, - poukaz na CEWE FOTOKNIHU (dárkový balíček)
Fujifilm Cashback Doprava zdarma
Cena s DPH 49 990 Kč
Cena bez DPH 41 314 Kč
Skladem
Kód produktu 80047994
Kód produktu 80047994

Fujifilm XF 100-400mm f/4,5-5,6 R LM OIS

Fujinon XF100-400mmF4.5-5.6 R LM OIS WR je super teleobjektiv se zoomem, který pokrývá 35mm ohniskovou vzdálenost ekvivalentem 152-609mm. Vysoký výkon a optická konstrukce 21 elementů v 14 skupinách obsahuje pět ED čoček a jeden jedna Super ED, které pomáhají snižovat chromatickou aberaci ke kterému často dochází u teleobjektivů. V důsledku toho přináší nejvyšší kvalitu obrazu ve své třídě. Objektiv byl navržen pro fotografování z ruky, váží méně než 1,4 kg. Lineární motor pro rychlé zaostřování je ideální pro fotografování rychle se pohybujících objektů, včetně letadel a sportů. Objektiv je také odolný jak proti působení vody tak i proti prachu a může pracovat v teplotách až -10 ° C, takže je vhodný pro použití v širokém rozsahu venkovních podmínek. Fluoru povlak byl také aplikován na přední čočku pro odpuzovaní vody, nečistot, a další zlepšení tuhosti čočky.

Základní parametry
Konstrukce Teleobjektiv
Min. ohnisková vzdálenost 100 mm
Max. ohnisková vzdálenost 400 mm
Světelnost objektivu od (f/) 4.5
Světelnost objektivu do (f/) 5.6
Obsah balení Sluneční clona, pouzdro, statiový adaptér, krytka objektivu, zadní krytka
Max. clona 22
Optické členy 21 členů, 14 skupin
Počet lamel clony 9
Optická stabilizace ANO
Antireflexní vrstvy/povrchová úprava ANO
Automatické/manuální ostření ANO/ANO
Stupnice zaostřené vzdálenosti NE
Závit pro filtr 82 mm
Bajonet Fujifilm X
Určeno pro velikost snímače APS-C
Hmotnost objektivu 1375 g
Příslušenství
B+W UV filtr 82mm XS-PRO DIGTAL MRC nano B+W UV filtr 82mm XS-PRO DIGTAL MRC nano Skladem
2 990 Kč
Filtry jsou nedílnou součástí mnohotvárných fotografických postupů. Mohou měnit světlo k vytváření vhodných nálad, přidávat barvy, zvyšovat kontrast, nebo zvýraznit to, co lidské oko normálně nepostřehne.
B+W CP-L filtr 82mm Käsemann XS-PRO HTC DIGITAL MRC nano B+W CP-L filtr 82mm Käsemann XS-PRO HTC DIGITAL MRC nano Na objednávku
6 199 Kč
Filtry B + W jsou jednou z nejrespektovanějších značek v oblasti fotografování. Díky inovativní vrstvě MC jsou zašleněny mezi nejodolnější filtry, které nabízejí vynikající antireflexní vlastnost a odolnost vůči poškrábání.
Lenspen ORIGINAL - čistící štětec na optiku Lenspen ORIGINAL - čistící štětec na optiku Skladem
299 Kč
Profesionální štětec na čištění optiky. Jedna strana skrývá výsuvný štěteček, druhá plošku s napuštěnou grafitovým práškem.
Fujifilm XF 1.4x TC WR telekonvertor Fujifilm XF 1.4x TC WR telekonvertor Lenspen Zdarma Skladem
11 990 Kč
Počasí a prachu odolný telekonvertor Fujifilm XF 1.4X TC WR je určen pro objektivy s X bajonetem, jehož úkolem je zvětšit ohniskovou vzdálenost instalovaného objektivu až 1,4x
Diskuze
Jméno:  *
E-mail:

Prosím, opište kód: CONTACT_VERIFICATIONCODE_REFRESH  *
Přidat příspěvek
Ještě nikdo nenapsal žádný příspěvek do diskuze.
Alternativní produkty
Fujifilm XF 50-140mm f/2.8 R LM OIS WR Fujifilm XF 50-140mm f /2.8 R LM OIS WR Lenspen Zdarma Fujifilm Cashback Skladem
37 390 Kč
Fujifilm XF 50-140mm f/2.8 R LM OIS WR je zoomový objektiv s výtečnou světelností, optickou stabilizací obrazu a konstrukcí odolnou proti nepříznivému počasí.
Fujifilm XC 50-230mm f/4.5-6.7 OIS černý Fujifilm XC 50-230mm f /4.5-6.7 OIS černý Lenspen Zdarma Skladem
11 290 Kč
Široký rozsah tohoto teleobjektivu přináší systémovým fotoaparátů řady X rozsah od 76 mm do 350 mm (ekv. kinofilmu), přičemž v celém rozsahu vykazuje vynikající optickou kvalitu
Facebook YouTube YouTube Google+ Twitter Blog FOTOLAB.cz